前日本产业技术综合研究所中国研究员因​​向中国公司泄露研究数据、背叛信任被判有罪……东京地方法院

霓虹百事通

　25日，东京地方法院以泄露国家研究开发机构日本产业技术综合研究所（产综研，茨城县筑波市）研究数据为由，对被指控违反不正当竞争防制法（泄露商业机密）的中国前高级研究员全恒道（61岁）判处有期徒刑2年半，缓刑4年，并处以200万日元罚金（检方此前要求判处其2年半有期徒刑、200万日元罚金）。主审法官马场义郎表示，“这辜负了接受政府资助的AIST研究人员的信任。”

东京地方法院
　据判决书显示，2018年4月，权某将其在产业技术综合研究所正在研究的“氟化合物”研究课题的研究数据，通过电子邮件发送给其妻子所代表的一家中国公司，泄露了构成产业技术综合研究所商业机密的信息。


　对于该数据，辩方辩称，这是在中国进行的研究成果，不属于产业技术综合研究所，也不构成商业秘密，因此被告被判无罪。但判决指出，该研究成果是被告人权某及其工作人员利用产业技术综合研究所的设施和设备共同创造的。最终确定这些信息并不为公众所知，且构成“商业秘密”。

　判决指出，权某滥用商业机密，在中国大规模生产氟化合物，意图获取不正当利润。他说：“在人们越来越重视利用具有先进技能和知识的外国人力资源的时代，当发生这样的事件时，可能会引发人们对外国人力资源活动纪律的担忧。”


　针对该裁决，产业技术综合研究所表示：“我们将竭尽全力防止此类事件再次发生。”